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科研机构
北京大学 [2]
西安光学精密机械研究... [1]
内容类型
期刊论文 [2]
专利 [1]
发表日期
1986 [3]
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发表日期:1986
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Semiconductor IC and manufacture thereof
专利
专利号: JP1986189663A, 申请日期: 1986-08-23, 公开日期: 1986-08-23
作者:
OGURA MOTOTSUGU
;
HASE NOBUYASU
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提交时间:2020/01/18
ⅡB族元素氧化物与γ-Al_2O_3相互作用的XRD研究
期刊论文
物理化学学报, 1986
刘英骏
;
董保和
;
谢有畅
;
唐有祺
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提交时间:2015/11/13
载体表面
光衍射
比表面
焙烧温度
谢有畅
热分解
尖晶石相
外推法
四面体空隙
XRD
ZnO/γ-Al_2O_3体系的状态和表面结构的研究(Ⅰ)
期刊论文
物理化学学报, 1986
赵璧英
;
吴念祖
;
桂琳琳
;
唐有祺
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提交时间:2015/10/24
固相反应
表面结构
光电子能谱法
锌铝
焙烧温度
高温焙烧
化学计量比
电子结合能
共沉淀法
ZnO
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