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内容类型
期刊论文 [3]
发表日期
2001 [3]
学科主题
半导体材料 [1]
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Growth of sige heterojunction bipolar transistor using si2h6 gas and ge solid sources molecular beam epitaxy
期刊论文
Journal of crystal growth, 2001, 卷号: 223, 期号: 4, 页码: 489-493
作者:
Gao, F
;
Huang, DD
;
Li, JP
;
Kong, MY
;
Sun, DZ
收藏
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提交时间:2019/05/12
Molecular beam epitaxy
Semiconducting gegermanium
Semiconducting silicon
Bipolar transistors
Heterojunction semiconductor devices
Growth of SiGe heterojunction bipolar transistor using Si2H6 gas and Ge solid sources molecular beam epitaxy
期刊论文
JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH, 2001, 卷号: 223, 期号: 4, 页码: 489-493
作者:
Gao, F
;
Huang, DD
;
Li, JP
;
Kong, MY
;
Sun, DZ
收藏
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浏览/下载:12/0
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提交时间:2021/02/02
molecular beam epitaxy
semiconducting gegermanium
semiconducting silicon
bipolar transistors
heterojunction semiconductor devices
Growth of SiGe heterojunction bipolar transistor using Si2H6 gas and Ge solid sources molecular beam epitaxy
期刊论文
journal of crystal growth, 2001, 卷号: 223, 期号: 4, 页码: 489-493
Gao F
;
Huang DD
;
Li JP
;
Kong MY
;
Sun DZ
;
Li JM
;
Zeng YP
;
Lin LY
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提交时间:2010/08/12
molecular beam epitaxy
semiconducting gegermanium
semiconducting silicon
bipolar transistors
heterojunction semiconductor devices
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