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浏览/检索结果: 共6条，第1-6条 帮助 已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 UV spectrum-integral Talbot lithography for amplitude periodic micro-grating fabrication 期刊论文 Proceedings of SPIE: 8th International Symposium on Advanced Optical Manufacturing and Testing Technologies: Design, Manufacturing, and Testing of Micro- and Nano-Optical Devices and Systems; and Smart Structures and Materials, 2016, 卷号: 9685, 页码: 96850M 作者:  Deng, Qian;  Liu, Junbo;  Zhou, Shaolin;  Tang, Yan;  Zhao, Lixin 收藏  |  浏览/下载：34/0  |  提交时间：2018/06/14 Crystal Symmetry  Frequency Doublers  Lithography  Manufacture  Microoptics  Optical Devices  Phase Shift  Ultraviolet Spectroscopy   高数值孔径投影光刻物镜的光学设计 学位论文 博士: 中国科学院大学, 2015 作者:  徐明飞 收藏  |  浏览/下载：63/0  |  提交时间：2015/11/30 光学设计  投影光刻物镜  高数值孔径  像质补偿  偏振像差   Source optimization using simulated annealing algorithm 会议论文 Proceedings of SPIE: 7th International Symposium on Advanced Optical Manufacturing and Testing Technologies: Optical Test and Measurement Technology and Equipment, 2014 作者:  Jiang, Haibo;  Xing, Tingwen;  Du, Meng 收藏  |  浏览/下载：14/0  |  提交时间：2016/11/23 Illumination system without scanning slit for lithographic tools 会议论文 27th optical microlithography conference as part of the spie advanced lithography symposium 作者:  Zhang, Yunbo;  Zeng, Aijun;  Wang, Ying;  Chen, Mingxing;  Zhang, Shanhua 收藏  |  浏览/下载：21/0  |  提交时间：2016/11/28 Influence of illumination mode to lithographic imaging 会议论文 Proceedings of SPIE: 6th International Symposium on Advanced Optical Manufacturing and Testing Technologies: Optical System Technologies for Manufacturing and Testing, 2012 作者:  Liu, Yong;  Xing, Tingwen;  Yang, Xiong 收藏  |  浏览/下载：10/0  |  提交时间：2016/11/23 高端光刻机照明系统智能均匀性校正技术研究 学位论文 作者:  程伟林 收藏  |  浏览/下载：114/0  |  提交时间：2018/12/26 高端光刻机照明系统  Advanced lithographic illumination  智能均匀性校正技术  intelligent uniformity correction  手指阵列式均匀性校正技术  finger arreys uniformity correction  阵列式手指驱动技术  finger array driving technology