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CF_4/Ar感性耦合等离子体增强准原子层刻蚀SiO_2多尺度研究 学位论文
: 大连理工大学, 2018
作者:  杨雪
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反应物输运与Ar/C4F8等离子体中SiO2刻蚀的精度控制 会议论文
第十八届全国等离子体科学技术会议, 中国陕西西安, 2017-07-01
作者:  张赛谦;  杨雪;  戴忠玲;  王友年
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