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兰州大学 [2]
上海微系统与信息技术... [1]
暨南大学 [1]
半导体研究所 [1]
内容类型
期刊论文 [5]
发表日期
2007 [1]
2006 [2]
1998 [1]
1989 [1]
学科主题
physics [1]
半导体材料 [1]
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微晶硅薄膜制备中等离子体功率的调制作用
期刊论文
2007, 卷号: 18, 期号: 5, 页码: 558
作者:
杨恢东[1]
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提交时间:2019/12/06
甚高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECVD)
氢化微晶硅(μc-SiH)薄膜
光发射谱
等离子体功率调制作用
HW-MWECR-CVD法制备氢化微晶硅薄膜及其微结构研究
期刊论文
物理学报, 2006, 期号: 11, 页码: 6147-6151
作者:
刘国汉
;
丁毅
;
朱秀红
;
陈光华
;
贺德衍
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提交时间:2015/04/27
微波电子回旋共振化学气相沉积
氢化微晶硅薄膜
拉曼散射
X射线衍射
Preparation and characterization of hydrogenated microcrystalline silicon films by HW-MWECR-CVD
期刊论文
ACTA PHYSICA SINICA/物理学报, 2006, 卷号: 55, 期号: 11, 页码: 6147-6151
作者:
Liu, GH
;
Ding, Y
;
Zhu, XH
;
Chen, GH
;
He, DY
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浏览/下载:4/0
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提交时间:2015/05/25
HW-MWECR-CVD
hydrogenated microcrystalline silicon films
Raman scattering
X-ray diffraction
高氢稀释制备微晶硅薄膜微结构的研究
期刊论文
物理学报, 1998, 卷号: 47, 期号: 9, 页码: 1542
郭晓旭
;
朱美芳
;
刘金龙
;
韩一琴
;
许怀哲
;
董宝中
;
生文君
;
韩和相
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浏览/下载:18/0
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提交时间:2010/11/23
氢气放电无窗输出型光CVD非晶、微晶硅薄膜
期刊论文
半导体学报, 1989, 期号: 10
郭述文
;
朱基千
;
谭淞生
;
王渭源
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浏览/下载:9/0
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提交时间:2012/03/29
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