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微晶硅薄膜制备中等离子体功率的调制作用 期刊论文
2007, 卷号: 18, 期号: 5, 页码: 558
作者:  杨恢东[1]
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HW-MWECR-CVD法制备氢化微晶硅薄膜及其微结构研究 期刊论文
物理学报, 2006, 期号: 11, 页码: 6147-6151
作者:  刘国汉;  丁毅;  朱秀红;  陈光华;  贺德衍
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Preparation and characterization of hydrogenated microcrystalline silicon films by HW-MWECR-CVD 期刊论文
ACTA PHYSICA SINICA/物理学报, 2006, 卷号: 55, 期号: 11, 页码: 6147-6151
作者:  Liu, GH;  Ding, Y;  Zhu, XH;  Chen, GH;  He, DY
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高氢稀释制备微晶硅薄膜微结构的研究 期刊论文
物理学报, 1998, 卷号: 47, 期号: 9, 页码: 1542
郭晓旭; 朱美芳; 刘金龙; 韩一琴; 许怀哲; 董宝中; 生文君; 韩和相
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氢气放电无窗输出型光CVD非晶、微晶硅薄膜 期刊论文
半导体学报, 1989, 期号: 10
郭述文; 朱基千; 谭淞生; 王渭源
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