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科研机构
北京大学 [1]
内容类型
期刊论文 [1]
发表日期
2009 [1]
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Challenges of 22 nm and beyond CMOS technology
期刊论文
science in china series f information sciences, 2009
Huang Ru
;
Wu HanMing
;
Kang JinFeng
;
Xiao DeYuan
;
Shi XueLong
;
An Xia
;
Tian Yu
;
Wang RunSheng
;
Zhang LiangLiang
;
Zhang Xing
;
Wang YangYuan
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提交时间:2015/11/12
CMOS technology
22 nm technology node
device architectures
metal gate/high K dielectrics
ultra low K dielectrics
SILICON NANOWIRE TRANSISTORS
CARRIER-TRANSPORT
CHANNEL FINFETS
DRAIN STRESSORS
CARBON SOURCE/DRAIN
GATE STACK
METAL-GATE
HIGH-K
RELIABILITY CHARACTERISTICS
PERFORMANCE ENHANCEMENT
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