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Selected topics on HfO2 gate dielectrics for future ULSI CMOS devices 其他
2004-01-01
Li, M.F.; Yu, H.Y.; Hou, Y.T.; Kang, J.F.; Wang, X.P.; Shen, C.; Ren, C.; Yeo, Y.C.; Zhu, C.X.; Chan, D.S.H.; Chin, Albert; Kwong, D.L.
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