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科研机构
微电子研究所 [1]
内容类型
会议论文 [1]
发表日期
2017 [1]
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High Performance InGaAs MOSFETs with an InGaP interface Control Layer and ALD-AL2O3 Gate Oxide for RF Switch Applications
会议论文
作者:
Sun B(孙兵)
;
Xia QZ(夏庆贞)
;
Huang KL(黄凯亮)
;
Chang HD(常虎东)
;
Wang SK(王盛凯)
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提交时间:2018/07/20
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