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C-2位和C-4位修饰的1-去氧紫杉烷类化合物及其制备方法 专利
申请日期: 2018-01-01,
作者:  林海霞[1];  唐平[2];  崔永梅[3];  肖艳茹[4];  谢程虎[5]
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