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Stress and resistivity controls on in situ boron doped LPCVD polysilicon films for high-Q MEMS applications 期刊论文
半导体学报, 2009, 卷号: 30, 期号: 8, 页码: 34-38
Xie Jing; Liu Yunfei; Yang Jinling; Tang Longjuan; Yang Fuhua
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Dependence of wet etch rate on deposition, annealing conditions and etchants for PECVD silicon nitride film 期刊论文
半导体学报, 2009, 卷号: 30, 期号: 9, 页码: 151-154
作者:  Li Yan
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