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北京大学 [2]
内容类型
其他 [2]
发表日期
2004 [2]
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发表日期:2004
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TDDB characteristics of ultra-thin HfN/HfO2 gate stack
其他
2004-01-01
Yang, Hong
;
Sa, Ning
;
Tang, Liang
;
Liu, Xiaoyan
;
Kang, Jinfeng
;
Han, Ruqi
;
Yu, H.Y.
;
Ren, C.
;
Li, M.-F.
;
Chan, D.S.H.
;
Kwong, D.-L.
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提交时间:2015/11/13
Characteristics of sub-1 nm CVD HfO2 gate dielectrics with HfN electrodes for advanced CMOS applications
其他
2004-01-01
Kang, J.F.
;
Yu, H.Y.
;
Ren, C.
;
Wang, X.P.
;
Li, M.-F.
;
Chan, D.S.H.
;
Liu, X.Y.
;
Han, R.Q.
;
Wang, Y.Y.
;
Kwong, D.-L.
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提交时间:2015/11/13
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