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浏览/检索结果: 共4条，第1-4条 帮助 限定条件 发表日期：1996    专题：武汉大学    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Structure and electrical characteristics of ICBD C60 films 期刊论文 Applied Physics A: Materials Science and Processing, 1996, 卷号: 63, 期号: 4 作者:  Shi, Y.;  Xiong, C.M.;  Wang, X.S.;  Lei, C.H.;  Guo, H.X. 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2019/12/05 Effect of Cu-ion implantation on PTCR behaviors of semiconducting barium titanate ceramics 期刊论文 功能材料, 1996, 卷号: 27, 期号: 5 作者:  Wang, Guomei;  Lei, Jiaheng;  Du, Huiling 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2019/12/05 Effect of Cu-ion implantation on PTCR behaviors of semiconducting barium titanate ceramics 期刊论文 功能材料, 1996, 卷号: 27, 期号: 5 作者:  Wang, Guomei;  Lei, Jiaheng;  Du, Huiling 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2019/12/05 Structure and electrical characteristics of ICBD C-60 films 期刊论文 APPLIED PHYSICS A-MATERIALS SCIENCE & PROCESSING, 1996, 卷号: 63, 期号: 4 作者:  Shi, Y;  Xiong, CM;  Wang, XS;  Lei, CH;  Guo, HX 收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2019/12/05