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浏览/检索结果: 共3条，第1-3条 帮助 限定条件 专题：沈阳自动化研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 CMP过程Run-to-Run预测控制方法研究 学位论文 博士, 中国科学院沈阳自动化研究所: 中国科学院沈阳自动化研究所, 2012 王亮 收藏  |  浏览/下载：240/0  |  提交时间：2012/07/27 半导体制造  化学机械研磨  Run-to-Run控制  预测控制  过程控制   基于LS-SVM模型和扰动估计的光刻过程智能R2R预测控制 期刊论文 计算机测量与控制, 2012, 卷号: 20, 期号: 8, 页码: 2124-2126, 2142 作者:  胡静涛 收藏  |  浏览/下载：9/0  |  提交时间：2012/12/28 光刻过程  最小二乘支持向量机  扰动估计  run-to-run控制  预测控制  克隆选择   基于灰色模型的CMP过程免疫预测R2R控制 期刊论文 仪器仪表学报, 2012, 卷号: 33, 期号: 2, 页码: 306-314 作者:  王亮;  胡静涛 收藏  |  浏览/下载：37/0  |  提交时间：2012/10/24 化学机械研磨  灰色模型  克隆选择  预测控制  Run-to-Run控制