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西安理工大学 [6]
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期刊论文 [4]
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2013 [2]
2012 [1]
2011 [2]
1991 [1]
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硼掺杂量对P型a-Si∶H膜微结构和光/电学性能的影响
期刊论文
2013, 卷号: 41, 页码: 364-369
作者:
时惠英
;
董丹
;
蒋百灵
;
鲁媛媛
;
刘宁
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提交时间:2019/12/20
硼掺杂氢化非晶硅薄膜 硼掺杂比 真空退火 光学带隙 电阻率
PH3/SiH4气流量比对N型a-Si:H薄膜微观结构与电学性能的影响
期刊论文
2013, 卷号: 41, 页码: 1668-1673
作者:
董丹
;
时惠英
;
蒋百灵
;
鲁媛媛
;
张岩
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浏览/下载:5/0
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提交时间:2019/12/20
磷掺杂氢化非晶硅薄膜
磷掺杂比
退火
载流子浓度
电阻率
a-Si1-x-yCxGey:H薄膜及a-Si:H/4H-SiC光电特性研究
学位论文
: 西安理工大学, 2012
作者:
曹鑫
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浏览/下载:1/0
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提交时间:2019/12/20
氢化非晶硅基薄膜材料
光电特性
生长速率
制备工艺
电极间距
磁控溅射沉积氢化非晶硅薄膜及其结晶过程的研究
学位论文
: 西安理工大学, 2011
作者:
苗启林
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提交时间:2019/12/20
磁控溅射
非晶硅薄膜
退火晶化
晶化率
晶粒尺寸
溅射沉积氢化非晶硅中辉光放电等离子体的Langmuir探针诊断
期刊论文
2011, 卷号: 31, 页码: 476-480
作者:
李洪涛
;
蒋百灵
;
杨波
;
曹政
;
郭维华
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提交时间:2019/12/20
磁控溅射
Langmuir探针
等离子体
离子密度
电子密度
用结恢复电流研究a-Si:H p~+-i-n~+结构的缺陷
期刊论文
1991, 页码: 167-171+192
作者:
李福德
;
张青
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提交时间:2019/12/25
氢化非晶硅
SW效应
结恢复电流
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