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| 一种石墨烯场效应晶体管及其制造方法 专利 专利号: CN201610306272.3, 申请日期: 2018-11-09, 公开日期: 2016-07-20 作者: 彭松昂 ; 金智 ; 王少青; 毛达诚; 史敬元![](/image/person.jpg)
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| 半导体器件制造方法 专利 专利号: CN201210382151.9, 申请日期: 2018-02-13, 公开日期: 2014-04-16 作者: 秦长亮; 殷华湘![](/image/person.jpg)
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| 一种新型碳基材料和金属接触的制作方法 专利 专利号: CN102593006A, 申请日期: 2012-07-18, 公开日期: 2012-07-18 作者: 王显泰 ; 麻芃; 陈娇; 金智 ; 郭建楠![](/image/person.jpg)
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| 一次掩膜光刻同时定义有机薄膜晶体管源漏栅电极的方法 专利 专利号: CN200710177796.8, 申请日期: 2010-01-27, 公开日期: 2009-05-27 作者: 甄丽娟; 刘明 ; 刘兴华 ; 商立伟![](/image/person.jpg)
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| 一种制备ZnO纳米线悬浮的背栅场效应管的方法 专利 专利号: CN101752257A, 申请日期: 2008-12-17, 公开日期: 2010-06-23, 2010-11-26 作者: 黎明; 付晓君; 徐静波
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| 一种制备ZnO多沟道纳米线场效应晶体管的方法 专利 专利号: CN101752256A, 申请日期: 2008-12-17, 公开日期: 2010-06-23, 2010-11-26 作者: 付晓君; 徐静波; 黎明
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| 一种制作200nm栅长GaAs基MHEMT器件的方法 专利 专利号: CN101615580, 申请日期: 2008-06-25, 公开日期: 2009-12-30, 2010-11-26 作者: 黎明; 张海英; 徐静波; 付晓君
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| 一种适用于纳米器件制造的硅化物工艺 专利 专利号: CN1754860, 申请日期: 2004-09-29, 公开日期: 2006-04-05, 2010-11-26 作者: 柴淑敏; 徐秋霞; 王大海
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