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浏览/检索结果: 共4条，第1-4条 帮助 限定条件 专题：金属研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 磁性纳米颗粒中的交换偏置和磁卡效应，磁性薄膜中的交换耦合效应和铁磁、铁电薄膜体系中的隧道电阻效应 学位论文 博士, 北京: 中国科学院金属研究所, 2012 刘雄华 收藏  |  浏览/下载：162/0  |  提交时间：2013/04/12 机械合金化  交换偏置  磁卡效应  交换耦合  隧道磁电阻  Mechanical-alloying  exchange bias  magnetocaloric effect  exchange coupling  tunneling magnetoresistance   PECVD硅烷分解法制备硅层基本规律的研究 学位论文 博士, 金属研究所: 中国科学院金属研究所, 2009 程华 收藏  |  浏览/下载：54/0  |  提交时间：2012/04/10 微晶硅薄膜  PECVD  Ar放电  沉积速率  组织结构  结晶状态  薄膜稳定性  电学特性  光学特性   CVD SiC 纤维增强Al及TiAl基复合材料的制备新方法、界面及拉伸性能研究 学位论文 博士, 金属研究所: 中国科学院金属研究所, 2008 冀鸰 收藏  |  浏览/下载：44/0  |  提交时间：2012/04/10 复合材料  SiC纤维  Al  TiAl  真空热压  工艺  界面  拉伸性能   离子剥离逐层分析的计算机模拟 期刊论文 金属学报, 1986, 期号: 5, 页码: 128-133 曲哲; 谢天生 收藏  |  浏览/下载：6/0  |  提交时间：2012/04/12 计算机模拟:5236  逐层分析:4387  剥离系数:4018  离子轰击:2562  分布曲线:2504  数学模型:2479  表面浓度:2278  元素:2202  离子能量:2069  离子刻蚀技术:1969