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科研机构
微电子研究所 [4]
内容类型
外文期刊 [4]
发表日期
2010 [1]
2004 [1]
2002 [1]
1993 [1]
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内容类型:外文期刊
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Effect of radio frequency power on the inductively coupled plasma etched Al0.65Ga0.35N surface
外文期刊
2010
作者:
Liu, XY
;
Bai, Y
;
Liu, J
;
Ma, P
;
Li, B
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浏览/下载:18/0
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提交时间:2010/11/26
N-type Gan
Electronic-properties
Oxide
Damage
Ingan
Algan
Etched-diffraction-grating-based planar waveguide demultiplexer on silicon-on-insulator
外文期刊
2004
作者:
Wang, WH
;
Tang, YZ
;
Wang, YX
;
Qu, HC
;
Wu, YM
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浏览/下载:23/0
  |  
提交时间:2010/11/26
Large Cross-section
Ingaasp/inp
The reactive ion etching of Bi2Ti2O7 thin films on silicon substrates and its image in atomic force microscopy
外文期刊
2002
作者:
Wang, Z
;
Sun, DL
;
Hu, JF
;
Cui, DL
;
Xu, XH
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浏览/下载:16/0
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提交时间:2010/11/26
OPTICAL INTERCONNECTION WITH PHASE-ONLY MASKS BY MEANS OF REACTIVE ION ETCHING
外文期刊
1993
作者:
ZHANG, JJ
;
XU, C
;
GAO, SP
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浏览/下载:7/0
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提交时间:2010/11/26
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