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一种基于湿法腐蚀制备位相型衍射光学元件的方法 专利
专利号: CN201110061444.2, 申请日期: 2013-08-07, 公开日期: 2012-09-19
作者:  李海亮;  谢常青;  牛洁斌;  朱效立;  史丽娜
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