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锗衬底上制备金属-氧化物-半导体场效应晶体管方法 专利
申请日期: 2011-04-12,
作者:  胡爱斌;  许高博;  徐秋霞
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一种SOI埋氧层下的导电层及其制作工艺 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN101916761A, 申请日期: 2010-12-15, 公开日期: 2010-12-15
程新红; 何大伟; 王中健; 徐大伟; 宋朝瑞; 俞跃辉
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可完全消除衬底辅助耗尽效应的SOI超结LDMOS结构的制作工艺 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN101916728A, 申请日期: 2010-12-15, 公开日期: 2010-12-15
程新红; 何大伟; 王中健; 徐大伟; 宋朝瑞; 俞跃辉
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一种金属氧化物半导体场效应晶体管 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN1039153, 申请日期: 1990-01-01, 公开日期: 1990-01-24
龙伟; 徐元森
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