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科研机构
上海微系统与信息技术... [3]
微电子研究所 [1]
内容类型
专利 [4]
发表日期
2011 [1]
2010 [2]
1990 [1]
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锗衬底上制备金属-氧化物-半导体场效应晶体管方法
专利
申请日期: 2011-04-12,
作者:
胡爱斌
;
许高博
;
徐秋霞
收藏
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浏览/下载:10/0
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提交时间:2016/09/18
一种SOI埋氧层下的导电层及其制作工艺
专利
专利类型: 发明, 专利号: CN101916761A, 申请日期: 2010-12-15, 公开日期: 2010-12-15
程新红
;
何大伟
;
王中健
;
徐大伟
;
宋朝瑞
;
俞跃辉
收藏
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浏览/下载:33/0
  |  
提交时间:2012/01/06
可完全消除衬底辅助耗尽效应的SOI超结LDMOS结构的制作工艺
专利
专利类型: 发明, 专利号: CN101916728A, 申请日期: 2010-12-15, 公开日期: 2010-12-15
程新红
;
何大伟
;
王中健
;
徐大伟
;
宋朝瑞
;
俞跃辉
收藏
  |  
浏览/下载:23/0
  |  
提交时间:2012/01/06
一种金属氧化物半导体场效应晶体管
专利
专利类型: 发明, 专利号: CN1039153, 申请日期: 1990-01-01, 公开日期: 1990-01-24
龙伟
;
徐元森
收藏
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浏览/下载:26/0
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提交时间:2012/01/10
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