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The properties of the as-sputtered ZnO films under different deposition parameters after sulfidation 期刊论文
ACTA PHYSICA SINICA, 2005, 卷号: 54, 期号: 5, 页码: 2389-2393
作者:  Zhang RG(张仁刚);  Wang BY(王宝义);  Zhang H(张辉);  Ma CX(马创新);  Wei L(魏龙)
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