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浏览/检索结果: 共4条，第1-4条 帮助 限定条件 学科主题：材料科学与物理化学     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 A simple strategy to tailor the microstructure and wear-resistance of sputtered WS2 films 期刊论文 Materials Letters, 2018, 卷号: 216, 期号: 0, 页码: 179-181 作者:  Gao XM(高晓明);  Xu SS(徐书生);  Hu M(胡明);  Sun JY(孙嘉奕);  Weng LJ(翁立军) 收藏  |  浏览/下载：72/0  |  提交时间：2018/01/14 Physical Vapour Deposition  Thin Films  Structural   Low temperature deposited Ag films exhibiting highly preferred orientations 期刊论文 Materials Letters, 2018, 卷号: 213, 期号: 0, 页码: 178-180 作者:  Hu M(胡明);  Gao XM(高晓明);  Sun JY(孙嘉奕);  Sun JY(孙嘉奕);  Liu WM(刘维民) 收藏  |  浏览/下载：32/0  |  提交时间：2018/01/07 Physical Vapour Deposition  Crystal Structure  Thin Films  Low Temperature   MoS2-Sb2O3 film exhibiting better oxidation-resistance in atomic oxygen environment 期刊论文 Materials Letters, 2018, 卷号: 219, 期号: 0, 页码: 212-215 作者:  Gao XM(高晓明);  Hu M(胡明);  Fu YL(伏彦龙);  Jiang D(姜栋);  Sun JY(孙嘉奕) 收藏  |  浏览/下载：23/0  |  提交时间：2018/03/11 Physical Vapour Deposition  Thin Films  Structural  Atomic Oxygen  Oxidation   The effects of negative bias and flux ratio on the properties of TiN thin films formed by filtered cathodic arc plasma technique 期刊论文 Acta metallurgica sinica, 2005, 卷号: 18, 期号: 3, 页码: 369-374 作者:  Xue QJ(薛群基) 收藏  |  浏览/下载：12/0  |  提交时间：2014/03/03 TiN  filtered cathodic arc plasma  preferred orientation