×
验证码:
换一张
忘记密码?
记住我
CORC
首页
科研机构
检索
知识图谱
申请加入
托管服务
登录
注册
在结果中检索
科研机构
半导体研究所 [14]
内容类型
期刊论文 [12]
学位论文 [2]
发表日期
2018 [1]
2011 [2]
2010 [1]
2007 [1]
2005 [4]
2004 [2]
更多...
学科主题
微电子学 [14]
×
知识图谱
CORC
开始提交
已提交作品
待认领作品
已认领作品
未提交全文
收藏管理
QQ客服
官方微博
反馈留言
浏览/检索结果:
共14条,第1-10条
帮助
限定条件
学科主题:微电子学
已选(
0
)
清除
条数/页:
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
70
75
80
85
90
95
100
排序方式:
请选择
作者升序
作者降序
题名升序
题名降序
发表日期升序
发表日期降序
提交时间升序
提交时间降序
低功耗低抖动锁相环时钟产生器研究与设计
学位论文
北京: 中国科学院大学, 2018
作者:
杨锦城
收藏
  |  
浏览/下载:16/0
  |  
提交时间:2018/05/31
锁相环
注入锁定
全数字锁相环
全综合锁相环
毫米波
高剂量注氮对注氧隔离硅材料埋氧层中正电荷密度的影响
期刊论文
物理学报, 2011, 卷号: 60, 期号: 5, 页码: 056104-1-056104-6
作者:
于芳
收藏
  |  
浏览/下载:20/0
  |  
提交时间:2012/07/17
Influence of high-dose nitrogen implantation on the positive charge density of the buried oxide of silicon-on-insulator wafers
期刊论文
acta physica sinica, 2011, 卷号: 60, 期号: 5, 页码: article no.56104
作者:
Yu F
收藏
  |  
浏览/下载:93/6
  |  
提交时间:2011/07/06
separation by oxygen implantation
buried oxide
nitrogen implantation
positive charge density
RADIATION HARDNESS
IMPLANTING NITROGEN
ION-IMPLANTATION
IMPROVEMENT
TECHNOLOGY
OXYGEN
LAYER
面向红外、紫外焦平面阵列的读出电路的研究
学位论文
博士, 北京: 中国科学院研究生院, 2010
马文龙
收藏
  |  
浏览/下载:81/12
  |  
提交时间:2010/04/07
量子阱红外焦平面阵列
CMOS 读出电路
GaN 紫外焦平面阵列
低温
内建电注入
低泄漏电流
非均匀性
SIMOX SOI埋氧注氮工艺对埋氧中固定正电荷密度的影响
期刊论文
物理学报, 2007, 卷号: 56, 期号: 9, 页码: 5446-5451
郑中山
;
张恩霞
;
刘忠立
;
张正选
;
李宁
;
李国花
收藏
  |  
浏览/下载:10/0
  |  
提交时间:2010/11/23
注氮工艺对SIMOX器件电特性的影响
期刊论文
半导体学报, 2005, 卷号: 26, 期号: 4, 页码: 835-839
张国强
;
刘忠立
;
李宁
;
范楷
;
郑中山
;
张恩霞
;
易万兵
;
陈猛
;
王曦
收藏
  |  
浏览/下载:11/0
  |  
提交时间:2010/11/23
部分耗尽型注氟SIMOX器件的电离辐射效应
期刊论文
半导体学报, 2005, 卷号: 26, 期号: 2, 页码: 349-353
李宁
;
张国强
;
刘忠立
;
范楷
;
郑中山
;
林青
;
张正选
;
林成鲁
收藏
  |  
浏览/下载:99/1
  |  
提交时间:2010/11/23
埋氧层注氮工艺对部分耗尽SOI nMOSFET特性的影响
期刊论文
物理学报, 2005, 卷号: 54, 期号: 1, 页码: 348-353
郑中山
;
刘忠立
;
张国强
;
李宁
;
范楷
;
张恩霞
;
易万兵
;
陈猛
;
王曦
收藏
  |  
浏览/下载:23/0
  |  
提交时间:2010/11/23
注氮工艺对SOI材料抗辐照性能的影响
期刊论文
半导体学报, 2005, 卷号: 26, 期号: 6, 页码: 1269-1272
张恩霞
;
钱聪
;
张正选
;
王曦
;
张国强
;
李宁
;
郑中山
;
刘忠立
收藏
  |  
浏览/下载:12/0
  |  
提交时间:2010/11/23
Metal alloy and monoelemental nanoclusters in silica formed by sequential ion implantation and annealing in selected atmosphere
期刊论文
physica b-condensed matter, 2004, 卷号: 353, 期号: 1-2, 页码: 92-97
Ren F
;
Jiang CZ
;
Chen HB
;
Shi Y
;
Liu C
;
Wang JB
收藏
  |  
浏览/下载:18/0
  |  
提交时间:2010/03/17
ion implantation
©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by
CSpace