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科研机构
半导体研究所 [2]
内容类型
期刊论文 [2]
发表日期
2000 [1]
1996 [1]
学科主题
半导体材料 [2]
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学科主题:半导体材料
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Effect of low-temperature SiGe interlayer on the growth of relaxed SiGe
期刊论文
journal of crystal growth, 2000, 卷号: 213, 期号: 3-4, 页码: 308-311
Li DZ
;
Huang CJ
;
Cheng BW
;
Wang HJ
;
Yu Z
;
Zhang CH
;
Yu JZ
;
Wang QM
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提交时间:2010/08/12
SiGe
UHV/CVD
RHEED
Raman scattering
SILICON
RELAXATION
Dislocations and precipitates in semi-insulating gallium arsenide revealed by ultrasonic Abrahams-Buiocchi etching
期刊论文
journal of crystal growth, 1996, 卷号: 167, 期号: 0, 页码: 766-768
Chen NF
;
He HJ
;
Wang YT
;
Pan K
;
Lin LY
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提交时间:2010/11/17
GAAS
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