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科研机构
半导体研究所 [9]
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期刊论文 [7]
会议论文 [2]
发表日期
2011 [1]
2010 [1]
2003 [1]
2001 [2]
2000 [2]
1998 [2]
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学科主题
半导体材料 [9]
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学科主题:半导体材料
专题:半导体研究所
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VLS growth of SiOx nanowires with a stepwise nonuniformity in diameter
期刊论文
journal of applied physics, 2011, 卷号: 109, 期号: 8, 页码: article no.84328
Huang SL
;
Wu Y
;
Zhu XF
;
Li LX
;
Wang ZG
;
Wang LZ
;
Lu GQ
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浏览/下载:29/0
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提交时间:2011/07/05
SILICON NANOWIRES
SURFACE MIGRATION
NANOSTRUCTURES
CATALYST
Controlled growth of silicon nanowires by solid-liquid-solid method and their formation mechanism
期刊论文
acta physica sinica, 2010, 卷号: 59, 期号: 2, 页码: 1169-1174
Peng YC (Peng Ying-Cai)
;
Fan ZD (Fan Zhi-Dong)
;
Bai ZH (Bai Zhen-Hua)
;
Ma L (Ma Lei)
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浏览/下载:141/29
  |  
提交时间:2010/04/21
silicon nanowires
Au-Si liquid droplet alloys
solid-liquid-solid growth
structural characteristics
SI NANOWIRES
NI CATALYSTS
Influence of semi-insulating InP substrates on InAlAs epilayers grown by molecular beam epitaxy
期刊论文
journal of crystal growth, 2003, 卷号: 250, 期号: 3-4, 页码: 364-369
Dong HW
;
Zhao YW
;
Zeng YP
;
Jiao JH
;
Li JM
;
Lin LY
收藏
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浏览/下载:45/0
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提交时间:2010/08/12
diffusion
interfaces
substrates
molecular beam epitaxy
phosphides
semiconducting indium phosphide
UNDOPED SEMIINSULATING INP
CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION
PHOSPHIDE VAPOR
FE
INTERFACE
PHOTOLUMINESCENCE
WAFER
UNIFORMITY
DIFFUSION
PRESSURE
Structural evaluation of polycrystalline silicon thin films by hot-wire-assisted PECVD
期刊论文
thin solid films, 2001, 卷号: 395, 期号: 1-2, 页码: 213-216
Feng Y
;
Zhu M
;
Liu F
;
Liu J
;
Han H
;
Han Y
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浏览/下载:161/11
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提交时间:2010/08/12
poly-Si
structure
hot-wire
plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD)
CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION
MICROCRYSTALLINE SILICON
HYDROGEN
Structural evaluation of polycrystalline silicon thin films by hot-wire-assisted PECVD
会议论文
1st international conference on cat-cvd (hot wire cvd) process, kanazawa, japan, nov 14-17, 2000
Feng Y
;
Zhu M
;
Liu F
;
Liu J
;
Han H
;
Han Y
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浏览/下载:20/0
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提交时间:2010/11/15
poly-Si
structure
hot-wire
plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD)
CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION
MICROCRYSTALLINE SILICON
HYDROGEN
Epitaxial growth of GaNAs/GaAs heterostructure materials
会议论文
1st asian conference on chemical vapour deposition, shanghai, peoples r china, may 10-13, 1999
Lin YW
;
Pan Z
;
Li LH
;
Zhou ZQ
;
Wang H
;
Zhang W
收藏
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浏览/下载:12/0
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提交时间:2010/11/15
GaNAs
DC active N-2 plasma
molecular beam epitaxy
nitrogen content
Fourier transform infrared spectroscopy of intensity
BAND-GAP ENERGY
GAAS1-XNX
NITROGEN
Epitaxial growth of GaNAs/GaAs heterostructure materials
期刊论文
thin solid films, 2000, 卷号: 368, 期号: 2, 页码: 249-252
Lin YW
;
Pan Z
;
Li LH
;
Zhou ZQ
;
Wang H
;
Zhang W
收藏
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浏览/下载:41/0
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提交时间:2010/08/12
GaNAs
DC active N-2 plasma
molecular beam epitaxy
nitrogen content
Fourier transform infrared spectroscopy of intensity
BAND-GAP ENERGY
GAAS1-XNX
NITROGEN
Low-temperature growth properties of Si1-xGex by disilane and solid-Ge molecular beam epitaxy
期刊论文
journal of crystal growth, 1998, 卷号: 193, 期号: 4, 页码: 535-540
Liu JP
;
Kong MY
;
Li JP
;
Liu XF
;
Huang DD
;
Sun DZ
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浏览/下载:33/0
  |  
提交时间:2010/08/12
Si1-xGex alloys
low temperature epitaxy
desorption
adsorption
surface morphology
growth kinetics
HYDROGEN DESORPTION
SI(100)
SI
SURFACTANT
GERMANIUM
MECHANISM
KINETICS
ALLOYS
SI2H6
GAS-SOURCE MBE
Low-temperature growth of cubic GaN by metalorganic chemical-vapor deposition
期刊论文
thin solid films, 1998, 卷号: 326, 期号: 1-2, 页码: 251-255
Zheng LX
;
Yang H
;
Xu DP
;
Wang XJ
;
Li XF
;
Li JB
;
Wang YT
;
Duan LH
;
Hu XW
收藏
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浏览/下载:49/0
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提交时间:2010/08/12
nitrides
MOCVD
surface morphology
growth mechanism
PHASE EPITAXY
GAAS
OSCILLATIONS
MOLECULAR-BEAM EPITAXY
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