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科研机构
上海光学精密机械研究... [7]
内容类型
期刊论文 [7]
发表日期
2008 [4]
2007 [1]
2006 [1]
2005 [1]
学科主题
光学薄膜 [7]
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学科主题:光学薄膜
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SiO_2薄膜折射率的准确拟合分析
期刊论文
中国激光, 2008, 卷号: 35, 期号: 5, 页码: 760, 763
王胭脂
;
张伟丽
;
范正修
;
黄建兵
;
晋云霞
;
姚建可
;
邵建达
收藏
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浏览/下载:1271/128
  |  
提交时间:2009/09/22
词薄膜
SiO2折射率
包络法
准确拟合
Accurately fitting
Envelop method
Optical-
Refractive index of SiO
2
Thin films
引入过渡层提高介质减反膜的抗激光损伤阈值
期刊论文
Chin. Opt. Lett., 2008, 卷号: 6, 期号: 10, 页码: 773, 775
王聪娟
;
晋云霞
;
邵建达
;
范正修
收藏
  |  
浏览/下载:1266/149
  |  
提交时间:2009/09/22
减反膜
Antireflection
损伤阈值
AR coatings
AR films
Center wavelengths
Interfacial layers
Laser induced damage thresholds
Quarter wavelength optical thicknesses
4H-SiC基底Al_2O_3/SiO_2双层减反射膜的设计和制备
期刊论文
光学学报, 2008, 卷号: 28, 期号: 12, 页码: 2431, 2435
黄火林
;
张峰
;
吴正云
;
齐红基
;
姚建可
;
范正修
;
邵建达
收藏
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浏览/下载:1115/176
  |  
提交时间:2009/09/22
薄膜光学
Al2O3/SiO2双层减反射膜
电子束蒸发
4H-SiC基底
折射率
4H-SiC substrate
Al
2
O
3
/SiO
2
double-layer anti-reflection coatings
Deposited layers
Electron beam evaporation
Layer coatings
Layer thicknesses
Physical thicknesses
Reference wavelengths
Reflection spectrums
Scanning electron microscopes
SEM images
Single layers
Thin film optics
UV optoelectronic devices
Wavelength selectivities
Al
2
O
3
/SiO
2
films prepared by electron-beam evaporation as UV antireflection coatings on 4H-SiC
期刊论文
appl. surf. sci., 2008, 卷号: 254, 期号: 10, 页码: 3045, 3048
Zhang Feng
;
Zhu Huili
;
Yang Weifeng
;
Wu Zhengyun
;
Qi Hongji
;
贺洪波
;
范正修
;
邵建达
收藏
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浏览/下载:1168/226
  |  
提交时间:2009/09/22
UV antireflection coatings
4H-SiC
Al2O3/SiO2 films
electron-beam evaporation
LBO晶体上1064,532nm倍频增透膜的镀制及性能分析
期刊论文
强激光与粒子束, 2007, 卷号: 19, 期号: 8, 页码: 1325, 1328
邓震霞
;
贺洪波
;
宋永香
;
杨燕静
;
范正修
;
邵建达
收藏
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浏览/下载:1118/186
  |  
提交时间:2009/09/22
薄膜
Adhesion
LBO晶体
Annealing
倍频增透膜
Evaporation
过渡层
Optical properties
退火
Thermal expansion
热应力
Thermal stress
热膨胀系数
Thin films
Overcoat dependence of laser-induced damage threshold of 355 nm HR coatings
期刊论文
appl. surf. sci., 2006, 卷号: 252, 期号: 6, 页码: 2126, 2130
占美琼
;
贺洪波
;
Zhao YN
;
Tian GL
;
邵建达
;
范正修
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浏览/下载:755/135
  |  
提交时间:2009/09/22
overcoat
laser-induced damage threshold
electric field
沉积参量及时效时间对SiO2薄膜残余应力的影响
期刊论文
光学学报, 2005, 卷号: 25, 期号: 1, 页码: 126, 130
邵淑英
;
田光磊
;
范正修
;
邵建达
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浏览/下载:603/126
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提交时间:2009/09/22
薄膜光学
thin film optics
SiO2薄膜
SiO2 films
残余应力
residual stress
沉积温度
deposition temperature
氧分压
oxygen partial pressure
时效
aging
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