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浏览/检索结果: 共4条，第1-4条 帮助 限定条件 发表日期：2019    专题：上海大学    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Systematic Study of the SiOx Film with Different Stoichiometry by Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition and Its Application in SiOx/SiO₂ Super-Lattice 期刊论文 Nanomaterials (Basel, Switzerland), 2019, 卷号: 9, 页码: 1-13 作者:  Ma Hong-Ping[1];  Yang Jia-He[2];  Yang Jian-Guo[3];  Zhu Li-Yuan[4];  Huang Wei[5] 收藏  |  浏览/下载：37/0  |  提交时间：2019/04/22 SiO2  SiOx  plasma-enhanced atomic layer deposition (PEALD)  stoichiometry  superlattice   Chemical Vapor Deposition of Vertically Aligned Carbon Nanotube Arrays: Critical Effects of Oxide Buffer Layers 期刊论文 Nanoscale research letters, 2019, 卷号: 14, 页码: 106 作者:  Li Haohao[1];  Yuan Guangjie[2];  Shan Bo[3];  Zhang Xiaoxin[4];  Ma Hongping[5] 收藏  |  浏览/下载：32/0  |  提交时间：2019/04/22 Atomic layer deposition  Chemical vapor deposition  Oxide buffer layers  Vertically aligned carbon nanotubes   Enhanced Stability in Zr-Doped ZnO TFTs With Minor Influence on Mobility by Atomic Layer Deposition 期刊论文 IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES, 2019, 卷号: 66, 页码: 1760-1765 作者:  Yang, Jun[1];  Zhang, Yongpeng[2];  Qin, Cunping[3];  Ding, Xingwei[4];  Zhang, Jianhua[5] 收藏  |  浏览/下载：10/0  |  提交时间：2019/04/22 Atomic layer deposition (ALD)  oxygen defects  temperature stability  Zr-doped ZnO (ZrZnO) thin-film transistors (TFTs)   Atomic layer deposition of buffer layers for the growth of vertically aligned carbon nanotube arrays 期刊论文 Nanoscale Research Letters, 2019, 卷号: 14, 页码: 119 作者:  Haohao Li[1];  Guangjie Yuan[2];  Bo Shan[3];  Xiaoxin Zhang[4];  Hongping Ma[5] 收藏  |  浏览/下载：30/0  |  提交时间：2019/04/22 Atomic layer deposition  Oxide buffer layers  Thermal interface materials  Vertically aligned carbon nanotube arrays