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浏览/检索结果: 共6条，第1-6条 帮助 限定条件 发表日期：2018    内容类型：专利     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Laser diode-based light-emitting device for biomodulating tissues and pain in dentin hypersensitivity without the use of chemical agents and/or heat 专利 专利号: WO2018232484A1, 申请日期: 2018-12-27, 公开日期: 2018-12-27 作者:  DA SILVA, RAFAEL FIGUEIREDO 收藏  |  浏览/下载：11/0  |  提交时间：2019/12/31 Cured product, wavelength conversion sheet, light-emitting device, sealing member, and semiconductor light-emitting device 专利 专利号: WO2018047759A1, 申请日期: 2018-03-15, 公开日期: 2018-03-15 作者:  DOI, ATSUNORI;  NISHIDA, TOSHIHIKO;  MASUI, KENTARO 收藏  |  浏览/下载：15/0  |  提交时间：2019/12/30 Resonant optical transducers for in-situ gas detection 专利 专利号: US9880096, 申请日期: 2018-01-30, 公开日期: 2018-01-30 作者:  BOND, TIZIANA C;  COLE, GARRETT;  GODDARD, LYNFORD 收藏  |  浏览/下载：18/0  |  提交时间：2019/12/26 Preparing supported nickel phosphide catalyst, used for removing phenol from bio-oil, comprises reacting catalyst carrier in chemical plating liquid to obtain catalyst precursor, heating under chemical atmosphere and thermally treating. 专利 申请日期: 2018-01-01, 公开日期: 2018-02-13 作者:  WANG A YU Z YAO Y WANG Y LI X 收藏  |  浏览/下载：5/0  |  提交时间：2019/12/02 Photoelectric semiconductor wafer chemical mechanical polishing device, has UV light source located on polishing liquid tank to downwardly radiate wafer, and supporting part fixing polishing head and polishing liquid tank. 专利 申请日期: 2018-01-01, 公开日期: 2018-04-06 作者:  DONG Z KANG R OU L ZHOU P ZHU X SHI 收藏  |  浏览/下载：6/0  |  提交时间：2019/12/02 Material surface hydrophobization treatment method involves opening air supply system and passing vaporized reactant monomer and initiator into chemical vapor deposition reaction chamber at specific flow ratio and coating deposition time. 专利 申请日期: 2018-01-01, 公开日期: 2018-02-23 作者:  GUO F CONG S CAI Y 收藏  |  浏览/下载：7/0  |  提交时间：2019/12/02