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苏州纳米技术与纳米仿... [1]
中国科学院大学 [1]
半导体研究所 [1]
内容类型
期刊论文 [3]
发表日期
2015 [3]
学科主题
半导体材料 [1]
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发表日期:2015
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Characterization of Leakage and Reliability of SiNx Gate Dielectric by Low-Pressure Chemical Vapor Deposition for GaN-based MIS-HEMTs
期刊论文
IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES, 2015, 卷号: 62, 期号: 10, 页码: 8
作者:
Hua, MY
;
Liu, C
;
Yang, S
;
Liu, SH
;
Fu, K
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浏览/下载:32/0
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提交时间:2015/12/31
Gallium nitride
gate dielectric
low-pressure chemical vapor deposition (LPCVD)
silicon nitride
Effects of rapid thermal annealing on the properties of aln films deposited by peald on algan/gan heterostructures
期刊论文
Rsc advances, 2015, 卷号: 5, 期号: 47, 页码: 37881-37886
作者:
Cao, Duo
;
Cheng, Xinhong
;
Xie, Ya-Hong
;
Zheng, Li
;
Wang, Zhongjian
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提交时间:2019/05/10
Theoretical study of the anisotropic electron scattering by steps in vicinal AlGaN/GaN heterostructures
期刊论文
physica e: low-dimensional systems and nanostructures, 2015, 卷号: 66, 页码: 116-119
Huijie Li
;
Guipeng Liu
;
Guijuan Zhao
;
Hongyuan Wei
;
Lianshan Wang
;
Shaoyan Yang
;
Zhen Chen
;
Zhanguo Wang
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浏览/下载:19/0
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提交时间:2016/03/29
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