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分子拥挤试剂和离子液体为致孔剂制备印迹整体柱的方法 专利
申请日期: 2015-01-28,
作者:  刘照胜;  张琛;  阿吉艾克拜尔·艾萨
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分子拥挤试剂和离子液体为致孔剂制备印迹整体柱的方法 专利
专利号: ZL201410613288.X, 申请日期: 2015-01-28, 公开日期: 2015-12-09
作者:  刘照胜;  张琛;  阿吉艾克拜尔·艾萨
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