×
验证码:
换一张
忘记密码?
记住我
CORC
首页
科研机构
检索
知识图谱
申请加入
托管服务
登录
注册
在结果中检索
科研机构
上海光学精密机械研究... [3]
兰州理工大学 [2]
厦门大学 [1]
北京大学 [1]
近代物理研究所 [1]
软件研究所 [1]
更多...
内容类型
期刊论文 [8]
会议论文 [1]
学位论文 [1]
发表日期
2014 [10]
学科主题
材料科学与物理化学 [1]
×
知识图谱
CORC
开始提交
已提交作品
待认领作品
已认领作品
未提交全文
收藏管理
QQ客服
官方微博
反馈留言
浏览/检索结果:
共10条,第1-10条
帮助
限定条件
发表日期:2014
已选(
0
)
清除
条数/页:
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
70
75
80
85
90
95
100
排序方式:
请选择
作者升序
作者降序
题名升序
题名降序
发表日期升序
发表日期降序
提交时间升序
提交时间降序
Applications of a nonlinear evolution equation II: The EMC effect
期刊论文
INTERNATIONAL JOURNAL OF MODERN PHYSICS E-NUCLEAR PHYSICS, 2014, 卷号: 23
作者:
Ruan, Jianhong
;
Chen, Xurong
;
Wang, Rong
;
Zhang, Pengming
;
Zhu, Wei
收藏
  |  
浏览/下载:38/0
  |  
提交时间:2018/07/05
Emc Effect
Nuclear Shadowing And anti-Shadowing
Qcd Evolution Equation
Nonlinear Corrections
Microstructure and property changes induced by substrate rotation in titanium/silicon dual-doped a-C: H films deposited by mid-frequency magnetron sputtering
期刊论文
Surface and Coatings Technology, 2014, 卷号: 240, 页码: 419-424
作者:
Jiang, Jinlong
;
Wang, Qiong
;
Huang, Hao
;
Wang, Yubao
;
Zhang, Xia
收藏
  |  
浏览/下载:5/0
  |  
提交时间:2020/11/14
Amorphous carbon
Amorphous silicon
Carbon films
Magnetron sputtering
Microstructure
Rotation
Substrates
Surface morphology
a-C:H films
Hydrogenated amorphous carbon (a-C:H)
MF magnetron sputtering
Microstructure and properties
Rotary substrates
Rotating substrates
Shadowing effects
Substrate rotation
Microstructure and property changes induced by substrate rotation in titanium/silicon dual-doped a-C:H films deposited by mid-frequency magnetron sputtering
期刊论文
SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2014, 卷号: 240, 页码: 419-424
作者:
Jiang, Jinlong
;
Wang, Qiong
;
Huang, Hao
;
Wang, Yubao
;
Zhang, Xia
收藏
  |  
浏览/下载:5/0
  |  
提交时间:2019/11/15
a-C:H films
MF magnetron sputtering
Substrate rotation
Microstructure and property
Microstructure and property changes induced by substrate rotation in titanium/silicon dual-doped a-C:H films deposited by mid-frequency magnetron sputtering
期刊论文
Surface and Coatings Technology, 2014, 卷号: 240, 页码: 419-424
作者:
Jiang JL(姜金龙)
;
Wang Q(王琼)
;
Huang H(黄浩)
;
Wang YB(王玉宝)
;
Zhang X(张霞)
收藏
  |  
浏览/下载:12/0
  |  
提交时间:2014/12/17
a-C:H films
MF magnetron sputtering
Substrate rotation
Microstructure and property
Ambient organic carbon to elemental carbon ratios: Influence of the thermal-optical temperature protocol and implications
期刊论文
science of the total environment, 2014
Cheng, Yuan
;
He, Ke-bin
;
Duan, Feng-kui
;
Du, Zhen-yu
;
Zheng, Mei
;
Ma, Yong-liang
收藏
  |  
浏览/下载:5/0
  |  
提交时间:2015/11/11
PM2 (5)
OC
EC
SOA
WSOC
Biomass burning
AEROSOL LIGHT-ABSORPTION
FINE PARTICULATE MATTER
BLACK CARBON
CHEMICAL-COMPOSITION
SOURCE APPORTIONMENT
BROWN CARBON
CHINA
PHASE
IDENTIFICATION
DEPENDENCE
英文跟读练习对中译英同传语言产出的影响
学位论文
2014, 2014
兰溢芬
收藏
  |  
浏览/下载:3/0
  |  
提交时间:2016/01/12
跟读练习
同传语言产出
注意理论
量化分析
shadowing exercise
production of simultaneous interpreting
theories of attention
quantitative analysis
应用微表面模型进行衍射效果物理绘制
期刊论文
计算机辅助设计与图形学学报, 2014, 卷号: 26, 期号: 1, 页码: 1-9
吴付坤
;
吴佳泽
;
郑昌文
收藏
  |  
浏览/下载:9/0
  |  
提交时间:2014/12/16
菲涅尔系数
高度场微表面
维格纳分布函数
双向反射分布函数
衍射光学模型
Fast rigorous model for mask spectrum simulation and analysis of mask shadowing effects in EUV lithography
会议论文
conference on extreme ultraviolet (euv) lithography v
作者:
Liu, Xiaolei
;
Wang, Xiangzhao
;
Li, Sikun
;
Yan, Guanyong
;
Erdmann, Andreas
收藏
  |  
浏览/下载:11/0
  |  
提交时间:2016/11/28
Fast model for mask spectrum simulation and analysis of mask shadowing effects in extreme ultraviolet lithography
期刊论文
j. micro-nanolithogr. mems moems, 2014, 卷号: 13, 期号: 3, 页码: 33007
作者:
Liu, Xiaolei
;
Wang, Xiangzhao
;
Li, Sikun
;
Yan, Guanyong
;
Erdmann, Andreas
收藏
  |  
浏览/下载:17/0
  |  
提交时间:2016/11/28
extreme ultraviolet lithography
mask model
shadowing effect
pattern shift
critical dimension bias
Fast model for mask spectrum simulation and analysis of mask shadowing effects in extreme ultraviolet lithography
期刊论文
j. micro-nanolithogr. mems moems, 2014, 卷号: 13, 期号: 3, 页码: 33007
作者:
Liu, Xiaolei
;
Wang, Xiangzhao
;
Li, Sikun
;
Yan, Guanyong
;
Erdmann, Andreas
收藏
  |  
浏览/下载:15/0
  |  
提交时间:2016/11/28
extreme ultraviolet lithography
mask model
shadowing effect
pattern shift
critical dimension bias
©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by
CSpace