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科研机构
半导体研究所 [3]
内容类型
期刊论文 [3]
发表日期
1991 [3]
学科主题
半导体材料 [3]
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发表日期:1991
学科主题:半导体材料
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PHOTOEMISSION-STUDY OF THE INTERFACIAL FORMATION PROCESS AND REACTIONS BETWEEN AL AND HYDROGENATED AMORPHOUS SI
期刊论文
surface science, 1991, 卷号: 243, 期号: 0, 页码: l41-l45
ZHONG ZT
;
WANG DW
;
LIAO XB
;
MOU SM
;
FAN Y
;
LI CF
收藏
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浏览/下载:18/0
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提交时间:2010/11/15
FILMS
MICROSTRUCTURE
SI(111)
SILICON
INTERACTION OF CO WITH SI AND SIO2 DURING RAPID THERMAL ANNEALING
期刊论文
journal of applied physics, 1991, 卷号: 69, 期号: 11, 页码: 7612-7619
CHEN WD
;
CUI YD
;
HSU CC
;
TAO J
收藏
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浏览/下载:26/0
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提交时间:2010/11/15
GROWTH
SILICIDES
KINETICS
CRYSTAL
SILICON
FILMS
COSI2
CO2SI
TI
PHOTOEMISSION-STUDY ON THE SNO2/P A-SICX-H INTERFACE
期刊论文
journal of non-crystalline solids, 1991, 卷号: 137, 期号: 0, 页码: 1091-1094
LIAO XB
;
KONG GL
;
WANG YX
;
ZHENG HD
;
ZHANG Q
收藏
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浏览/下载:14/0
  |  
提交时间:2010/11/15
TRANSPARENT CONDUCTING OXIDES
AMORPHOUS-SILICON
HYDROGEN PLASMA
SPECTROSCOPY
BARRIER
FILMS
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