高重复频率脉冲激光辐照光学薄膜的温升实验

	高重复频率脉冲激光辐照光学薄膜的温升实验
	代福 ; 熊胜明 ; 高卫东
刊名	红外与激光工程
	2008
卷号	37 期号:3 页码:509-512
ISSN号	1007-2276
中文摘要	光学薄膜是激光系统中最易损坏的薄弱环节。在高重复频率脉冲激光辐照下,光学薄膜表面温度急剧上升,导致膜层应力、结构发生变化,最后出现宏观的灾难性损伤。从实验上研究了重复频率10kHz脉冲激光辐照下光学薄膜元件的温度变化,分析了影响薄膜温度变化的众多因素。结果表明,在激光光斑确定的情况下,薄膜的温升主要取决于激光功率密度,其次是膜系最外层高折射率层的驻波场峰值,最后是膜系的吸收率及镀膜材料。
学科主题	光学薄膜技术
收录类别	其他
语种	中文
公开日期	2015-12-24
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/2078]
专题	光电技术研究所_薄膜光学技术研究室（十一室）
推荐引用方式 GB/T 7714	代福,熊胜明,高卫东. 高重复频率脉冲激光辐照光学薄膜的温升实验[J]. 红外与激光工程,2008,37(3):509-512.
APA	代福,熊胜明,&高卫东.(2008).高重复频率脉冲激光辐照光学薄膜的温升实验.红外与激光工程,37(3),509-512.
MLA	代福,et al."高重复频率脉冲激光辐照光学薄膜的温升实验".红外与激光工程 37.3(2008):509-512.