热蒸发与离子束溅射制备LaF_3薄膜的光学特性

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	热蒸发与离子束溅射制备LaF_3薄膜的光学特性
	才玺坤 ; 张立超 ; 梅林 ; 时光
刊名	中国光学
	2014-10-15
期号	5 页码:808-815
关键词	薄膜 LaF3 热蒸发离子束溅射应力减反膜
中文摘要	研究了钼舟热蒸发工艺和离子束溅射方法制备的单层LaF3薄膜的特性。首先,采用分光光度计测量了LaF3薄膜的透射率和反射率光谱,使用不同模型拟合得出薄膜的折射率和消光系数。然后,采用应力仪测量了加热和降温过程中LaF3薄膜的应力-温度曲线。最后,采用X射线衍射仪测试了薄膜的晶体结构。实验结果表明,热蒸发制备的LaF3(RH LaF3)存在折射率的不均匀性,在193 nm,其折射率和消光系数分别为1.687和5×10-4,而离子束溅射制备的LaF3(IBS LaF3)折射率和消光系数分别为1.714和9×10-4。两种薄膜表现出相反的应力状态,RH LaF3薄膜具有张应力,而IBS LaF3具有压应力,退火之后其压应力减小。热蒸发制备的MgF2/LaF3减反膜在193 nm透过率为99.4%,反射率为0.04%,离子束溅射制备的AlF3/LaF3减反膜透过率为99.2%,反射率为0.1%。
语种	中文
公开日期	2015-05-27
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/43416]
专题	长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	才玺坤,张立超,梅林,等. 热蒸发与离子束溅射制备LaF_3薄膜的光学特性[J]. 中国光学,2014(5):808-815.
APA	才玺坤,张立超,梅林,&时光.(2014).热蒸发与离子束溅射制备LaF_3薄膜的光学特性.中国光学(5),808-815.
MLA	才玺坤,et al."热蒸发与离子束溅射制备LaF_3薄膜的光学特性".中国光学 .5(2014):808-815.