All-Decision Gate With Extinction Ratio Improved Scheme Using an SOA-DBR Laser | |
Yu, Li-Qiang ; Lu, Dan ; Zhao, Ling-Juan | |
刊名 | ieee photonics technology letters |
2014 | |
卷号 | 26期号:21页码:2126-2129 |
学科主题 | 半导体材料 |
收录类别 | SCI |
语种 | 英语 |
公开日期 | 2015-03-20 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/26106] |
专题 | 半导体研究所_中科院半导体材料科学重点实验室 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | Yu, Li-Qiang,Lu, Dan,Zhao, Ling-Juan. All-Decision Gate With Extinction Ratio Improved Scheme Using an SOA-DBR Laser[J]. ieee photonics technology letters,2014,26(21):2126-2129. |
APA | Yu, Li-Qiang,Lu, Dan,&Zhao, Ling-Juan.(2014).All-Decision Gate With Extinction Ratio Improved Scheme Using an SOA-DBR Laser.ieee photonics technology letters,26(21),2126-2129. |
MLA | Yu, Li-Qiang,et al."All-Decision Gate With Extinction Ratio Improved Scheme Using an SOA-DBR Laser".ieee photonics technology letters 26.21(2014):2126-2129. |
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