超大规模集成电路设计基础 第三讲 NMOS VLSI的结构特性 | |
刘以暠,冯世琴 | |
刊名 | 电子技术应用 |
1991 | |
期号 | 3页码:36-40 |
关键词 | NMOS VLSI 多层布线 扩散层 反相器 简化结构 拓扑结构 扩散区 导通电阻 逻辑电路 三维立体结构 |
中文摘要 | <正> 3.1 NMOS VLSI拓扑结构NMOS集成电路是多层布线的三维立体结构,整个电路完全由各层特定宽度的线条构成。一条扩散层线条与一条多晶层线条相交叉,即形成一MOS 管。故电路中的连接线占芯片结构的绝大部分面积。因此VLSI芯片设计中,多层布线的技术对简化结构,缩小面积、提高集成度就十分重要;而它所含元器件——MOS管的数量多少,相对来说就显得不很重要了。 |
收录类别 | CNKI |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2015-01-07 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://ir.ceode.ac.cn/handle/183411/37341] |
专题 | 遥感与数字地球研究所_中文期刊论文_期刊论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘以暠,冯世琴. 超大规模集成电路设计基础 第三讲 NMOS VLSI的结构特性[J]. 电子技术应用,1991(3):36-40. |
APA | 刘以暠,冯世琴.(1991).超大规模集成电路设计基础 第三讲 NMOS VLSI的结构特性.电子技术应用(3),36-40. |
MLA | 刘以暠,冯世琴."超大规模集成电路设计基础 第三讲 NMOS VLSI的结构特性".电子技术应用 .3(1991):36-40. |
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