激光预处理ZrO2-SiO2 1064 nm 高反射膜的机理

	激光预处理ZrO2-SiO2 1064 nm 高反射膜的机理
	李笑刘晓凤 ; 单永光 ; 赵元安 ; 邵建达 ; 范正修
刊名	光学学报
	2010
期号	8
合作状况	其它
学科主题	光学材料
收录类别	其他
语种	中文
公开日期	2011-04-18 ; 2011-04-27
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/7216]
专题	上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心
推荐引用方式 GB/T 7714	李笑刘晓凤,单永光,赵元安,等. 激光预处理ZrO2-SiO2 1064 nm 高反射膜的机理[J]. 光学学报,2010(8).
APA	李笑刘晓凤,单永光,赵元安,邵建达,&范正修.(2010).激光预处理ZrO2-SiO2 1064 nm 高反射膜的机理.光学学报(8).
MLA	李笑刘晓凤,et al."激光预处理ZrO2-SiO2 1064 nm 高反射膜的机理".光学学报 .8(2010).