| 一种SiO2减反射薄膜及其制备方法; 一种SiO2减反射薄膜及其制备方法 | |
| 宋伟杰 ; 兰品军 ; 李佳 ; 鲁越晖 ; 杨晔 ; 谭瑞琴 | |
| 2012-08-01 | |
| 专利国别 | 中国 |
| 专利类型 | 发明 |
| 权利人 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
| 中文摘要 | 本发明公开了一种SiO2减反射薄膜，包括光伏玻璃衬底以及依次涂覆在光伏玻璃衬底上的10nm-30nm厚的第一SiO2致密层、50nm-300nm厚的SiO2纳米空心颗粒层和填充在SiO2纳米空心颗粒层中SiO2纳米空心颗粒之间孔隙中的第二SiO2致密物；第二SiO2致密物的填充总量等同于5nm-30nm厚的第一SiO2致密层中SiO2致密物的量。该薄膜具有优良的减反射性能、耐擦拭性能和耐久性。本发明还公开了该制备方法：在光伏玻璃上制备第一SiO2致密层，再制备SiO2纳米空心颗粒层并填充第二SiO2致密物，经高温处理得到SiO2减反射薄膜。该方法操作简单，适合工业化大规模应用。 |
| 公开日期 | 2013-12-16 |
| 专利申请号 | CN201210097416.0 |
| 专利代理 | 刘诚午 |
| 内容类型 | 专利 |
| 源URL | [http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/10752]  |
| 专题 | 宁波材料技术与工程研究所_专利成果 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 宋伟杰,兰品军,李佳,等. 一种SiO2减反射薄膜及其制备方法, 一种SiO2减反射薄膜及其制备方法. 2012-08-01. |
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