多位移等式约束拓扑优化及在光电精密结构设计中的应用

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	多位移等式约束拓扑优化及在光电精密结构设计中的应用
	乔楠; 谢军; 王强龙; 刘震宇
刊名	计算力学学报
	2019
卷号	36 期号:06 页码:721-726
关键词	位移等式约束增广拉格朗日乘子反作用力拓扑优化光电精密设备
英文摘要	为了满足光电精密跟踪设备中光学系统对支撑结构变形位移相等的设计要求,基于变密度法,以刚度极大为目标,同时以体积约束和位移等式约束作为约束条件,构建结构拓扑优化模型。位移等式约束通过增广拉格朗日乘子法引入原目标函数,在拉格朗日乘子的求解中,采用考虑具有真实物理意义的近似替代法而非传统的纯数学迭代逼近方法。在利用伴随方法得到增广目标函数敏度基础上,采用MMA优化算法,在满足体积约束的同时进行迭代优化得到新结构。算例验证结果表明,本文方法能够有效解决具有多个位移等式约束的刚度极大结构轻量化设计问题。
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/63511]
专题	长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	乔楠,谢军,王强龙,等. 多位移等式约束拓扑优化及在光电精密结构设计中的应用[J]. 计算力学学报,2019,36(06):721-726.
APA	乔楠,谢军,王强龙,&刘震宇.(2019).多位移等式约束拓扑优化及在光电精密结构设计中的应用.计算力学学报,36(06),721-726.
MLA	乔楠,et al."多位移等式约束拓扑优化及在光电精密结构设计中的应用".计算力学学报 36.06(2019):721-726.