Mo/Si多层膜表面粗糙度相关镀膜工艺的研究

CORC > 长春光学精密机械与物理研究所 > 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

	Mo/Si多层膜表面粗糙度相关镀膜工艺的研究
	孙诗壮 ; 金春水 ; 喻波 ; 郭涛 ; 姚舜 ; 李春 ; 邓文渊
刊名	光学学报
	2020-05-25
卷号	40 期号:10 页码:196-202
关键词	薄膜 Mo/Si多层膜极紫外光刻磁控溅射表面粗糙度功率谱密度
英文摘要	Mo/Si多层膜镀膜工艺是极紫外光刻的关键技术之一,为了优化并提升Mo/Si多层膜的镀膜工艺,研究了气压、靶-基底间距这两个工艺参数对Mo/Si多层膜表面粗糙度的影响。根据磁控溅射物理过程,建立了一个原子沉积的物理模型,分析了原子沉积到基底时的入射角度和入射能量分布对气压、靶-基底间距的影响。此外,利用直流磁控溅射镀膜机,制备了Mo/Si多层膜样片,并测量了膜表面粗糙度和功率谱密度,研究了膜表面粗糙度和功率谱密度随气压和靶-基底间距的演化规律。理论和实验的结论一致,所提模型从理论上解释了实验测量结果。
URL标识	查看原文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/63990]
专题	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
作者单位	1.中国科学院大学 2.中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	孙诗壮,金春水,喻波,等. Mo/Si多层膜表面粗糙度相关镀膜工艺的研究[J]. 光学学报,2020,40(10):196-202.
APA	孙诗壮.,金春水.,喻波.,郭涛.,姚舜.,...&邓文渊.(2020).Mo/Si多层膜表面粗糙度相关镀膜工艺的研究.光学学报,40(10),196-202.
MLA	孙诗壮,et al."Mo/Si多层膜表面粗糙度相关镀膜工艺的研究".光学学报 40.10(2020):196-202.