锡硼氧氯双折射晶体的应用
潘世烈; 郭靖宇; 韩树娟
2019-12-27
著作权人中国科学院新疆理化技术研究所
文献子类发明专利
英文摘要

本发明涉及一种锡硼氧氯双折射晶体的应用,特别是一种用于红外–可见–紫外波段的分子式为Sn2B5O9Cl的锡硼氧氯双折射晶体在制备光隔离器、环形器、光束位移器、光学起偏器或光学调制器中的应用;该晶体的化学式为Sn2B5O9Cl,分子量为470.70,属于正交晶系,空间群为Pnn2,晶胞参数为a=11.281(3)Å,b=11.331(3)Å,c=6.5573(19)Å,α=90°,β=90°,γ=90°,单胞体积为838.2(4)Å3,其透光范围为350–3500 nm,双折射率为0.139(1064 nm)–0.311(350 nm)之间。所述的锡硼氧氯双折射晶体机械硬度适中,易于切割、抛光加工和保存;具有较大的双折射率;在光学和通讯领域有重要应用,可用于制作偏振分束棱镜,相位延迟器件和电光调制器件等。

申请日期2019-09-27
内容类型专利
源URL[http://ir.xjipc.cas.cn/handle/365002/7532]  
专题新疆理化技术研究所_材料物理与化学研究室
推荐引用方式
GB/T 7714
潘世烈,郭靖宇,韩树娟. 锡硼氧氯双折射晶体的应用. 2019-12-27.
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