管道热丝CVC金刚石膜反应器温度场的数值计算

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	管道热丝CVC金刚石膜反应器温度场的数值计算
	汪爱英; 纪爱玲; 邹友生; 孙超; 黄荣芳; 闻立时
刊名	人工晶体学报
	2002
卷号	31 期号:6 页码:576-582
关键词	热丝化学气相沉积金刚石膜温度场模拟计算
ISSN号	1000-985X
其他题名	Numerical Study on the Temperature Field of Reactor Wall for HFCVD Diamond Films
英文摘要	在热丝化学气相沉积（HFCVD）金刚石膜的传统管道反应器中，对不同传热机制下管道壁温度场的空间分布进行了模拟计算。结果表明，管道壁温度场在纯热辐射机制作用下的分布很不均匀；在绝热和恒温的边界条件下考虑热传导作用后，管道壁温度分布的均匀性大大提高；进一步的热对流作用仅提高管道壁的总体温度，并不显著改变管道壁温度场的均匀性分布。
语种	中文
CSCD记录号	CSCD:1016529
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/153135]
专题	金属研究所_中国科学院金属研究所
作者单位	中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	汪爱英,纪爱玲,邹友生,等. 管道热丝CVC金刚石膜反应器温度场的数值计算[J]. 人工晶体学报,2002,31(6):576-582.
APA	汪爱英,纪爱玲,邹友生,孙超,黄荣芳,&闻立时.(2002).管道热丝CVC金刚石膜反应器温度场的数值计算.人工晶体学报,31(6),576-582.
MLA	汪爱英,et al."管道热丝CVC金刚石膜反应器温度场的数值计算".人工晶体学报 31.6(2002):576-582.