半导体激光装置的设计方法、拉曼放大器的设计方法、半导体激光装置的制造方法、半导体激光装置、拉曼放大器、以及光通信系统
长谷川英明; 横内则之; 泽村壮嗣; 入野聪; 吉田顺自
2016-08-31
著作权人古河电气工业株式会社
专利号CN105917534A
国家中国
文献子类发明申请
其他题名半导体激光装置的设计方法、拉曼放大器的设计方法、半导体激光装置的制造方法、半导体激光装置、拉曼放大器、以及光通信系统
英文摘要在半导体激光装置的设计方法中,通过控制从输出侧反射单元到第二反射单元的距离、和用包含半导体激光元件中的光的环绕时间τ、输出侧反射单元的反射率R1以及第二反射单元的反射率R2的κ=(1/τ)×(1‑R1)×(R2/R1)1/2的式定义的向半导体激光元件的有效的返回光量κ,来使LFF周期成为20ns以下,选择该LFF周期成为20ns以下的半导体激光装置,作为出现FBG模式和FP模式的高速切换的半导体激光装,作为在相干崩溃模式下进行振荡的半导体激光装置使用。
公开日期2016-08-31
申请日期2014-12-04
状态授权
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/91535]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位古河电气工业株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
长谷川英明,横内则之,泽村壮嗣,等. 半导体激光装置的设计方法、拉曼放大器的设计方法、半导体激光装置的制造方法、半导体激光装置、拉曼放大器、以及光通信系统. CN105917534A. 2016-08-31.
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