Method for manufacturing InGaAsP and InGaAs double-heterostructure lasers and LED's for the wavelength range from 2 um to 7 um by liquid-phase epitaxy
KUPHAL, ECKART, DR.; BURKHARD, HERBERT, DR.
1985-12-11
著作权人SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT
专利号EP0164093A2
国家欧洲专利局
文献子类发明申请
其他题名Method for manufacturing InGaAsP and InGaAs double-heterostructure lasers and LED's for the wavelength range from 2 um to 7 um by liquid-phase epitaxy
英文摘要Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Doppelheterostruktur-InGaAsP/InP- bzw. InGaAs/InP-Lasern und -LED's mittels LPE, die bis zu einer Wellenlänge von λ. = 1,7 µm optische Strahlung emittieren. Durch das Wachsen der InP-Deckschicht aus einer Sn-In-P-Lösung wird das Anlösen der aktiven Schicht bei Gap-Wellenlängen λg ≥ 1,5 µm vermieden und somit keine Anti-Meltback-Schicht benötigt. Durch einen inversen Aufbau der Schichtstruktur bezüglich der Dotierung basierend auf einem p-InP-Substrat wird erreicht, dass die zwangsläufig stark n-dotierte InP-Deckschicht den passenden Leitungstyp hat. Ein solcher Doppelheterostruktur-Laser bzw. -LED besteht, wie in Fig. 1 ersichtlich, aus nur drei epitaktischen Schichten, wodurch die Technologie ganz entscheidend vereinfacht wird.
公开日期1985-12-11
申请日期1985-06-03
状态失效
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/88485]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT
推荐引用方式
GB/T 7714
KUPHAL, ECKART, DR.,BURKHARD, HERBERT, DR.. Method for manufacturing InGaAsP and InGaAs double-heterostructure lasers and LED's for the wavelength range from 2 um to 7 um by liquid-phase epitaxy. EP0164093A2. 1985-12-11.
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