一种高抑制比光陷阱 | |
陈钦芳; 薛要克; 刘阳; 林上民; 刘美莹; 马占鹏 | |
2020-09-01 | |
著作权人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
专利号 | CN201922350822.3 |
国家 | 中国 |
文献子类 | 实用新型 |
产权排序 | 1 |
英文摘要 | 本实用新型提供了一种高抑制比光陷阱,解决现有光陷阱对随机入射光和平行光无针对性,入射光难以满足高精度的杂散光测试需求,成本较高的问题。该光陷阱包括底面、平行设置的两个等腰直角三角形侧面、形状相同的第一反射面和第二反射面;底面、第一反射面、第二反射面、等腰直角三角形侧面内壁材均为黑色玻璃;底面、第一反射面、第二反射面依次尾首连接形成三角柱框架;两个等腰直角三角形侧面分别位于三角柱框架两侧开口处,形成密封腔室;底面上设有通光孔,该通光孔靠近第一反射面;经通光孔进入的平行光依次经第一反射面反射、第二反射面反射至底面,经底面反射回的光线再依次经第二反射面反射、第一反射面反射后从通光孔出射。 |
申请日期 | 2019-12-24 |
语种 | 中文 |
状态 | 授权 |
内容类型 | 专利 |
源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/94172] |
专题 | 西安光学精密机械研究所_空间光学应用研究室 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈钦芳,薛要克,刘阳,等. 一种高抑制比光陷阱. CN201922350822.3. 2020-09-01. |
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