新型光刻技术研究进展

	新型光刻技术研究进展
	何立文 1; 罗乐 1; 孟钢 2; 邵景珍 2; 方晓东 2
刊名	激光技术
	2019
卷号	043
关键词	激光技术光学制造新型光刻技术无掩模光刻掩模光刻微纳结构
ISSN号	1001-3806
其他题名	Recent progress of novel photolithography technologies
英文摘要	集成电路光刻作为传统光刻技术的典型代表,支撑着集成电路芯片的快速发展。新一代光刻技术具有工艺多样化、光刻精度高、光刻效率高的优点,在研发新型光电子器件、实现3维微纳结构、构建有序纳米孔通道等方面有很大的潜力。回顾了近些年来涌现的多种新型光刻技术,分析了各自的特征及在新型纳米电子、光子器件、能源、传感等领域中的应用。对未来光刻技术的发展方向进行了展望。
语种	中文
CSCD记录号	CSCD:6410174
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.hfcas.ac.cn:8080/handle/334002/45335]
专题	中国科学院合肥物质科学研究院
作者单位	1.合肥工业大学电子科学与应用物理学院 2.中国科学院安徽光学精密机械研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	何立文,罗乐,孟钢,等. 新型光刻技术研究进展[J]. 激光技术,2019,043.
APA	何立文,罗乐,孟钢,邵景珍,&方晓东.(2019).新型光刻技术研究进展.激光技术,043.
MLA	何立文,et al."新型光刻技术研究进展".激光技术 043(2019).