| 一种易去胶的高能离子注入多层掩膜的制备方法 | |
| 施长治 | |
| 2017-09-01 | |
| 著作权人 | 中国科学院上海技术物理研究所 |
| 专利号 | 201710776706.0 |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 发明专利 |
| 公开日期 | 2019-09-27 |
| 内容类型 | 专利 |
| 源URL | [http://202.127.2.71:8080/handle/181331/12328]  |
| 专题 | 上海技术物理研究所_上海技物所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 施长治. 一种易去胶的高能离子注入多层掩膜的制备方法. 201710776706.0. 2017-09-01. |
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