P-n device having an epitaxial multilayer structure
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1980-04-10
著作权人PHILIPS NV
专利号GB2030767A
国家英国
文献子类发明申请
其他题名P-n device having an epitaxial multilayer structure
英文摘要A method is provided of manufacturing, on a substrate of a binary compound, layers of ternary or quaternary compounds in which epitaxial intermediate layers separate the substrate from the end layer, wherein the relative increase of the dimensions of the crystal lattices in the successive epitaxial intermediate layers increases.
公开日期1980-04-10
申请日期1979-09-05
状态失效
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/66042]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位PHILIPS NV
推荐引用方式
GB/T 7714
-. P-n device having an epitaxial multilayer structure. GB2030767A. 1980-04-10.
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