| 光发射设备 | |
| H·J·B·贾格特; D·M·布鲁尔斯; D·A·贝诺伊; D·K·G·德博尔; H·J·科尼利森; J·J·维瑞恩; J·G·博埃瑞坎普; C·G·A·霍埃伦 | |
| 2019-03-01 | |
| 著作权人 | 飞利浦照明控股有限公司 |
| 专利号 | CN109416169A |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 光发射设备 |
| 英文摘要 | 一种光发射设备(1)，包括：发光元件(3)，包括第一面(31)和第二面(32)，第一面包括光输入表面并且第一面和第二面中的一个面包括光出射表面，发光元件(3)适于：在光输入表面处接收由至少一个激光光源(21、22、23)发射的具有第一光谱分布的第一光(4)、将具有第一光谱分布的第一光的至少一部分转换为具有第二光谱分布的第二光(5)、将具有第二光谱分布的第二光引导至光出射表面、并且将具有第二光谱分布的第二光的至少一部分从光出射表面耦出，以及散热器元件(7)，设置为与在第一面(31)和第二面(32)之间延伸的发光元件(3)的至少一部分热接触，其中第一面(31)包括截面面积A，并且发光元件(3)还包括：长度L，该长度L被限定为第一面和第二面之间的最短距离；以及截面面积A的特征长度B，特征长度B被限定为截面面积A的平方根，并且其中长度L和截面面积A的特征长度B被选择，使得它们满足如下关系中的任何一个关系：对于λTHClls/44(W/mm2)，对于6W/mK≤λTHC≤8W/mK，L/B≥3*Ells/44(W/mm2),以及对于8W/mKTHC，L/B≥0.85*Ells/44(W/mm2)，其中Ells是以W/mm2测量的至少一个激光光源的辐照度，并且λTHC是室温下发光元件的热学上的热系数。 |
| 公开日期 | 2019-03-01 |
| 申请日期 | 2017-03-06 |
| 状态 | 申请中 |
| 内容类型 | 专利 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/56456]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 飞利浦照明控股有限公司 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | H·J·B·贾格特,D·M·布鲁尔斯,D·A·贝诺伊,等. 光发射设备. CN109416169A. 2019-03-01. |
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