应力调控波导层绿光激光器外延片及其制备方法
杨静; 赵德刚; 陈平; 朱建军; 刘宗顺
2018-10-26
著作权人中国科学院半导体研究所
专利号CN105811243B
国家中国
文献子类授权发明
其他题名应力调控波导层绿光激光器外延片及其制备方法
英文摘要一种应力调控波导层绿光激光器外延片,包括:一衬底;一高温n型GaN层制作在衬底上;一高温n型AlGaN限制层制作在高温n型GaN层上;一应力调控下波导层制作在高温n型AlGaN限制层上;一InGaN/GaN多量子阱发光层制作在应力调控下波导层上;一p型AlGaN电子阻挡层制作在InGaN/GaN多量子阱发光层上;一非掺杂上波导层制作在p型AlGaN电子阻挡层上;一p型限制层制作在非掺杂上波导层上;一p型GaN层制作在p型限制层上。本发明是通过引入多层In组分渐增的InGaN应力调控波导层,在增加GaN基绿光激光器光场限制因子的同时降低绿光量子阱的应力。另外,采用氮氢混合载气生长并处理InGaN波导层表面,改善波导层的表面质量,提高绿光激光器的性能。
公开日期2018-10-26
申请日期2016-03-28
状态授权
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/49327]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位中国科学院半导体研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
杨静,赵德刚,陈平,等. 应力调控波导层绿光激光器外延片及其制备方法. CN105811243B. 2018-10-26.
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