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	GaN laser with refractory metal ELOG masks for intracavity contact
	BOUR, DAVID P.; CORZINE, SCOTT W
	2009-12-29
著作权人	AVAGO TECHNOLOGIES GENERAL IP (SINGAPORE) PTE. LTD.
专利号	US7638810
国家	美国
文献子类	授权发明
其他题名	GaN laser with refractory metal ELOG masks for intracavity contact
英文摘要	Refractory metal ELOG mask are used for GaN based VCSELs and edge emitter structures to serve as intracavity contacts. In these structures the refractory metal ELOG masks serve both as ohmic contact metals as well as masks for ELOG.
公开日期	2009-12-29
申请日期	2005-09-09
状态	失效
内容类型	专利
源URL	[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/46438]
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	AVAGO TECHNOLOGIES GENERAL IP (SINGAPORE) PTE. LTD.
推荐引用方式 GB/T 7714	BOUR, DAVID P.,CORZINE, SCOTT W. GaN laser with refractory metal ELOG masks for intracavity contact. US7638810. 2009-12-29.

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